Насосы для полупроводников

Специализированные сухие насосы серии WR для технологических процессов ETCH, PVD, CVD и DIFF. Конфигурация продувки, охлаждения, покрытия и интерфейсов определяется составом газа и рецептом процесса.

Выбрать модель Скачать тематический PDF

Насосы для полупроводников — Изображение иллюстрирует технологический класс; исполнение и комплектация подтверждаются по конкретной модели.

Паспорт раздела

Роль технологии

Серия WR предназначена для технологических установок с управляемой продувкой и интеграцией в систему автоматизации. Исполнение покрытия и расход азота согласуются по конкретному процессу.

Моделей: 6
Сверено: 6
S + Pпред: 6
Диапазон S: 120–1 800 м³/ч

До выбора модели

Инженерный контур проверки

Каталожное значение — отправная точка. Рабочую конфигурацию определяют процесс, обвязка и режим.

01Назначение

ETCH, PVD, CVD, DIFF, фотовольтаика, производство панелей и исследовательские установки.

02Конструкция

водоохлаждаемый двигатель; частотное управление; I/O и RS485 Modbus; автоматическая продувка.

03Рабочая точка

Задайте диапазон быстроты в удобной единице и требуемое предельное давление.

Открыть фильтр →

04Компоненты

Проверьте защиту входа, клапаны, КИП, охлаждение, выпуск и автоматику.

Быстрота600 м³/ч

Давление0.5 Па

PDF

Открыть характеристики →

Объяснимая связь

Связанные технологии и компоненты

Для серии WR связи определяются технологическим процессом, интеграцией управления, выпуском и комплектом обслуживания выбранной конфигурации.

01 · Процессное решение

Полупроводниковые вакуумные системы

Почему связано: ETCH, PVD, CVD и DIFF требуют совместной проверки сухой ступени, бустера, продувки, охлаждения и межблокировок.

02 · Смежное применение

Фотовольтаические вакуумные агрегаты

Почему связано: Связь актуальна для процессов производства фотоэлектрических структур, где конфигурация насоса зависит от газовой нагрузки и рецепта.

03 · ЗИП и ремкомплект

Запасные части для конкретного исполнения

Почему связано: Состав комплекта определяется по полному индексу, серийной табличке и фотографии узла; наличие и совместимость подтверждаются отдельно.

04 · Инженерные среды

Продувка, охлаждение и выпуск

Почему связано: Стабильность процесса зависит от согласованных расходов азота и воды, отвода тепла и безопасного выпускного тракта.

Следующий шаг

Передайте диапазон давления, состав газа, цикл, температуру и доступные инженерные среды. Неизвестные параметры можно уточнить совместно.

Передать исходные данные